Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения (Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л.) ; ТЕХНОСФЕРА, 2019
от 519 р. до 1199 р.
Автор(ы): Берлин Е.; Григорьев В.; Сейдман Л.;
Издатель: Техносфера
EAN: 978-5-94836-519-0
ISBN: 978-5-94836-519-0
ID: SKU341959
Сравнить цены
Цена от 519 р. до 1199 р. в 8 магазинах
Магазин | Цена | Наличие |
---|---|---|
ЛитРес 5/5 | 519 р. 649 р. электронная книга | скачать фрагмент | |
Book24 5/5 | 1199 р. | |
Лабиринт 5/5 | 690 р. 986 р. | |
Мегамаркет 5/5 | 1126 р. 1540 р. | |
Яндекс.Маркет 5/5 | 1072 р. 1394 р. | |
МАЙШОП 5/5 | 644 р. 920 р. | |
Читай-город 5/5 | 1149 р. | наличие уточняйте 26.11.2023 |
OZON | 587 р. | наличие уточняйте 03.01.2024 |
AliExpress 5/5 | ||
Описание
Использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества для технологии изделий с микро и нано элементами. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (?ei ? 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10–2?10–1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30?80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов, источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ICP для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например, в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD.
За последнее десятилетие эти источники нашли широкое промышленное применение, по которому появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP.
В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP. Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И, кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников.
Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP. В ней обобщено современное развитие этих технологических процессов и используемого для них оборудования. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Смотри также Характеристики.
Яндекс.Маркет
Содержание
ГЛАВА 1.
Современные источники плазмы для
технологических применений. Преимущества
источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с
ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных
материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности
различных материалов при обработке в источнике
ICP
Заключение
Список литературы
О книге
Автор(ы) | Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л. |
Раздел | Физические науки |
Издатель | ТЕХНОСФЕРА |
ISBN | 9785948365190 |
Год издания | 2019 |
Количество страниц | 464 |
Формат | 170x242мм |
Вес | 0.86кг |
Кол-во страниц | 464 |
Возрастные ограничения | 12 |
Серия | Мир материалов и технологий |
Количество книг | 1 |
Тип обложки | твердая |
Назначение | для технических ВУЗов |
Вес, в граммах | 315 |
Издательство | Техносфера |
Возрастное ограничение | 16+ |
Автор | Берлин Евгений Владимирович, Григорьев Василий Юрьевич, Сейдман Лев Александрович |
Размеры | 170x240 |
Язык издания | Русский |
Обложка | твердый переплёт |
Отзывы (1)
-
Анонимно
- 15 июня 20225/5
Очень нужная книга для специалиста. Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников Индукционной связанной Плазмы. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений.
0 0
Добавить отзыв
Книги где авторы: Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л.
Физика - издательство "Техносфера"
Категория 415 р. - 622 р.
Физика. Механика. Научные издания - издательство "Техносфера" »
Физика
Категория 415 р. - 622 р.